半导体制造的无声战场:高纯压力测量如何扼住先进制程的咽喉?
2025.08.08从FinFET到NanoSheet,从CFET到2DFET,每一次晶体管架构的革新,都伴随着EUV光刻、背面供电等技术的突破,推动芯片密度与性能不断跃升。而精密仪器如压力、流量、温度的精密的控制也显得尤为重要,推动半导体行业从“尺寸微缩”到“架构革新”的范式转变。 在晶圆厂的无尘车间里,每一纳米精度的背后,都隐藏着无数个参数控制的生死博弈。当工艺工程师在显微镜下追逐原子级的完美时,压力这个看似基础的参数,正悄然成为决定先进制程成败的关键命门。
